ITC吸入毒性暴露系統(tǒng)有整體暴露系統(tǒng)（WITC）和鼻部暴露（NITC）系統(tǒng)兩種暴露配置方式。

 

 

 

 

溫度：工作范圍 -20℃ ~ 70℃，精度 ±0.5℃

濕度：工作范圍 10 ~ 90 %，精度 ±3 %

O₂傳感器：工作范圍 0 ~ 25 %，精度 ±0.5 %

CO₂：工作范圍 0 ~ 5000ppm，精度 ±0.5 %

特殊傳感器：CO、NO、VOCs等可選

 

HCT吸入系統(tǒng)染毒室控制軟件（ITC管理器），可控制單個(gè)或多個(gè)染毒室。

模塊式控制箱 – 易安裝和布置

實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)獲取和顯示

 

稀釋因子：~ 100（可依客戶需求調(diào)節(jié)）

稀釋因子精度：通常±10%，*大值的±15%

數(shù)據(jù)傳輸：RS-422

 

產(chǎn)品描述·技術(shù)參數(shù):

環(huán)境條件              溫度 0 ~ 50℃
                      濕度 0 ~ 100%RH
檢測(cè)粒子              NIST可追溯性粒子
粒子發(fā)生器       范圍 5nm ~ 100μm
                      濃度 0 ~ 1012P/cm3（<300mg/cm3）
                      產(chǎn)生粒子的標(biāo)準(zhǔn)差 >1.05
                      類型 NaCl，KCl，Au，Ag，Pb，Mn，SiO2，TiO2，F(xiàn)e2O3，煙灰，CNT（碳納米），power等
                      可產(chǎn)生單分散或多分散氣溶膠
                      氣溶膠旋風(fēng)分離器 5μm
                      符合ISO 10801要求
粒子監(jiān)測(cè)系統(tǒng)        范圍 5 ~ 1 000nm（2.5nm可選）
                        *大濃度 108P/cm3
                        掃描時(shí)間 90s（可更改）
                        采樣流速 0 ~ 1.5lpm
                        工作壓力 0.75 ~ 1.05 atm
                        數(shù)據(jù)采集 PC，320×240分辨率觸摸LCD屏
                        掃描納米粒徑譜儀（SNPS系統(tǒng)）
                        OPC（光學(xué)計(jì)數(shù)器） 0.3 ~ 10μm
                        符合ISO 10808要求
濃度控制稀釋器        稀釋比例 1：2 ~ 1：100
暴露流量計(jì)         0 ~ 50L/min，質(zhì)量流量控制器
排氣流量                0 ~ 500L/min，排風(fēng)扇和自動(dòng)控制閥控制
干凈空氣供應(yīng)        HEPA過濾系統(tǒng)，除塵效率 0.3μm時(shí)可達(dá)99.97%
控制和監(jiān)測(cè)系統(tǒng)        環(huán)境監(jiān)測(cè) 溫度、濕度、壓力、空氣流量計(jì)、O2
                        濃度和粒徑分布
                        暴露條件狀況
                        互相監(jiān)測(cè)，水沖洗監(jiān)測(cè)等
                        粒子產(chǎn)生、稀釋比例、流量控制
                        質(zhì)量流量控制器
                        補(bǔ)充空氣閥和暴露空氣閥控制